做出来光刻机根本不意味着啥,

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#61 Re: 做出来光刻机根本不意味着啥,

帖子 hhcare(钟馗)楼主 »

Linjiaojiao 写了: 2025年 9月 18日 01:12

世界在动 振动会糊了影像
所以曝光必须快
这又扯出另一项关键技术 工作台
土鳖到底行不行 没人知道
见耗老师天天在骂青蛙做工作台的

鳖国肯定死于工作台
我猜
尼玛清华才是真的卡脖子

似乎那个带头人是煤炭还是铁道的4+4
据内部人说清华那个系其实极烂
似乎十几年只交了一个工作台给上微啥的
似乎想上市被阻止。。

尼玛的,中国光刻机不完蛋才见鬼。

咳咳咳,我只是外面看看
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上次由 hhcare 在 2025年 9月 18日 01:17 修改。

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#62 Re: 做出来光刻机根本不意味着啥,

帖子 snowman(*^_^*) »

foofy 写了: 2025年 9月 18日 01:02

都不卖了,产能低也得用

不仅仅是一个产能低的问题,你在光刻机上呆的时间太长,不仅影响曝光的uniformity, wafer被送到显影的时候缺陷也会被放大。

因为曝光的时候,光刻胶里含酸功能团已经在扩散了

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#63 Re: 做出来光刻机根本不意味着啥,

帖子 cellcycle1 »

hhcare 写了: 2025年 9月 17日 11:40

大家还是外行,被土鳖骗的一愣一愣的。

机器重要在能完全替代才行。

当年我在kla 做的时候,Hitachi 先做出来放Intel ,人家英特尔根本不着急,等kla 的产品。

当然kla核心是耗子做的。
据说直接把hitachi 打落地下吃屎

人家立马买KLA 的
Hitachi 还在吗?

具体内行做东西其实很简单。。土鳖不懂得还不问问内行
吹不了几年了

:lol: :lol: :lol:

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#64 Re: 做出来光刻机根本不意味着啥,

帖子 foofy(自带干粮五毛) »

snowman 写了: 2025年 9月 18日 01:15

不仅仅是一个产能低的问题,你在光刻机上呆的时间太长,不仅影响曝光的uniformity, wafer被送到显影的时候缺陷也会被放大。

因为曝光的时候,光刻胶里含酸功能团已经在扩散了

功率低都是你们瞎猜的吧。我知道功率至少90W了。

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#65 Re: 做出来光刻机根本不意味着啥,

帖子 snowman(*^_^*) »

foofy 写了: 2025年 9月 18日 01:19

功率低都是你们瞎猜的吧。我知道功率至少90W了。

官方数字

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#66 Re: 做出来光刻机根本不意味着啥,

帖子 foofy(自带干粮五毛) »

snowman 写了: 2025年 9月 18日 01:19

官方数字

60W是2023年头数字

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#67 Re: 做出来光刻机根本不意味着啥,

帖子 Linjiaojiao »

hhcare 写了: 2025年 9月 18日 01:14

鳖国肯定死于工作台
我猜
尼玛清华才是真的卡脖子

似乎那个带头人是煤炭还是铁道的4+4
据内部人说清华那个系其实极烂
似乎十几年只交了一个工作台给上微啥的
似乎想上市被阻止。。

尼玛的,中国光刻机不完蛋才见鬼。

咳咳咳,我只是外面看看
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我也觉工作台最难 这东西太神奇 居然能连着动两周才需校准

Linjiaojiao
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#68 Re: 做出来光刻机根本不意味着啥,

帖子 Linjiaojiao »

snowman 写了: 2025年 9月 18日 01:15

不仅仅是一个产能低的问题,你在光刻机上呆的时间太长,不仅影响曝光的uniformity, wafer被送到显影的时候缺陷也会被放大。

因为曝光的时候,光刻胶里含酸功能团已经在扩散了

TPS C8曝光后产生的超强酸很重 在室温下不会移动 也不会与马blocked acid,quercher 反应
所以扩散与反应都在 100 C 左右发生
这是帝动用康耐尔与布鲁克海文两台加速器才screen出来的

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#69 Re: 做出来光刻机根本不意味着啥,

帖子 snowman(*^_^*) »

Linjiaojiao 写了: 2025年 9月 18日 01:32

TPS C8曝光后产生的超强酸很重 在室温下不会移动 也不会与马blocked acid,quercher 反应
所以扩散与反应都在 100 C 左右发生
这是帝动用康耐尔与布鲁克海文两台加速器才screen出来的

Quencher有帮助但也只是某种程度上的。

你曝光太慢整个wafers上每个field idle时间不一样肯定影响uniformity

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#70 Re: 做出来光刻机根本不意味着啥,

帖子 coltzhao(bigdumbdumpling) »

snowman 写了: 2025年 9月 18日 01:19

官方数字

90W 足够了,ASML DUV也就90-120

关键干式DUV基本肯定是有了。浸润式光源来说功率没有本质区别,关键是稳定性上一个台阶。

上次由 coltzhao 在 2025年 9月 18日 01:50 修改。
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#71 Re: 做出来光刻机根本不意味着啥,

帖子 gaowei123 »

工作台才是超级难啊,因为涉及了在保证生产效率前提下的空间,时间的校准

coltzhao(bigdumbdumpling)
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#72 Re: 做出来光刻机根本不意味着啥,

帖子 coltzhao(bigdumbdumpling) »

gaowei123 写了: 2025年 9月 18日 01:45

工作台才是超级难啊,因为涉及了在保证生产效率前提下的空间,时间的校准

工作台一直都是进度乐观的那一项。 光源和光学系统才是落后的, 好像还有专利问题。

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