中国在EUV光刻机三大核心技术上的进步
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Re: 中国在EUV光刻机三大核心技术上的进步
大跃进多少次了,还不长记性?
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Re: 中国在EUV光刻机三大核心技术上的进步
你用ChatGPT的时候 它没告诉你训练数据主要来源于2021年以前吗twed 写了: ↑5月 5, 2023, 10:30 pm 中国能否研发出自己的光刻机,打破美国的封锁?
chatgp回答如下:
中国已经在自主研发光刻机方面取得了一定进展,但要完全打破美国在这一领域的封锁还需要一定时间和技术上的突破。目前,中国的光刻机主要分为两种类型,一种是紫外光刻机,另一种是电子束光刻机。
在紫外光刻机方面,中国已经可以生产一些中高端产品,但仍然存在一些技术上的瓶颈,例如光学镜头、曝光光源等核心部件还需要进一步提高性能和可靠性。此外,由于美国对光刻机芯片出口的管制,中国仍然存在依赖进口一些关键零部件和技术的情况。
在电子束光刻机方面,中国在过去几年已经取得了一些突破性进展,例如2018年中国科学院微电子研究所成功研发出世界上最小的电子束光刻机,可以制造出10纳米级别的芯片。但电子束光刻机仍然存在制造成本高、生产效率低等问题,需要进一步提高技术水平和工艺流程。
综上所述,中国已经在自主研发光刻机方面取得了一些进展,但要完全摆脱对进口技术和设备的依赖,还需要进一步提高技术水平和核心部件的自主研发能力。
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