为什么只有中国能造巨型光刻机
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Re: 为什么只有中国能造巨型光刻机
无论是哪种技术,能提供稳定的13.5nm光源的就行。
技术上,当然是用cymer的技术路线最稳妥。中国有一台EUV可以参考设计。如果实现同步光源,基本就是复制电动汽车的弯道超车了。理论上到1nm也没太大问题。可以少迭代2代产品。
按照曼哈顿工程的做法,这两条路,中国都会投入的。无论是哪条路走通,中国都会拥有EUV的制造能力。
技术上,当然是用cymer的技术路线最稳妥。中国有一台EUV可以参考设计。如果实现同步光源,基本就是复制电动汽车的弯道超车了。理论上到1nm也没太大问题。可以少迭代2代产品。
按照曼哈顿工程的做法,这两条路,中国都会投入的。无论是哪条路走通,中国都会拥有EUV的制造能力。
Re: 为什么只有中国能造巨型光刻机
按照公开的信息,应该不迟于2027年中国就能量产EUV制造的芯片。2030年以后如果辐射光源的技术路线能走通,半导体制造中国就反超了。
摩尔定律本身就是一个行业自卷的定律。现在全世界卷谁还能超过中国?