新未名空间

Linjiaojiao 写了： 2024年 9月 17日 11:50 操 耗老师真是该下放到车间 曝光时间延长 plant manager直接打你巴掌 而且越长对工作台要求越高
本来工作台就不如别人 你还要提比别人更长稳定性 做工作台肯定反问过来 你妈的 你光源不过关 凭哈让我来背锅

hhcare 写了： 2024年 9月 17日 12:03 弃婴是不是又到别的地方开辟战场去了？

krzkrz 写了： 2024年 9月 17日 12:05 莫吵了

我宣布你跟弃婴大师并列为中国光刻机卧龙凤雏 ~~

英亲王阿齐格 写了： 2024年 9月 17日 11:16 当然是耗子阿

耗子说得对阿，什么低NA镜头 怎么可能是因为光源的问题。 要么是因为镜片做不大，要么是因为镀膜技术不行。

你从常理想想，知道摄影吧。 摄影镜头里，大光圈镜头 暗光表现好。 这里面得光圈就相当于NA，虽然照相机镜头得光圈值可变，因为里面有个机械簧片组限制开孔直径。但是在光圈全开时候，这个就相当于本身得NA了。 所以NA越高的镜头，他越适合弱光，因为他收集的光得范围大。 至于多出来的镜片之间的界面反射，可以通过增透膜解决。

一般高级的镜头，里面每个镜片都是镀膜得，能让空气玻璃界面的损失降低到很小。

光刻机那种精度得镜头，我跟你说用的都不是一般得光学玻璃。 肯定是石英玻璃，而且是必须特别纯。 里面一丁点残余应力都不能有，因为你如果冷却时候，冷却速度各处不一样得。 在整块玻璃里面，各个残余应力是不一样的，这个残余应力能影响局部得折射系数得。结果就是每个地方折射系数都不一样，你一般应用无所谓，但光刻机这种应用就有所谓了。 所以说，这个光学玻璃造大了是有难度的。

hhcare 写了： 2024年 9月 17日 12:03 弃婴是不是又到别的地方开辟战场去了？

hhcare 写了： 2024年 9月 17日 12:06 别， 我嫌丢人。

Linjiaojiao 写了： 2024年 9月 17日 12:06 你会听Sb耗老师
光刻机的问题 就是光源功率问题 只有功率高 才能加镜头数才能把mask上的图形准确能缩小传到wafer上 消除各种他妈的我也不知道的什么鸟差
就象照像 高级相机各种大炮筒 纠正各种差 到最后对感光材料的光敏度可以提高
光刻胶光敏度无已到极限 无法提高 就这样
必须保证193在10-15 mj per cm 2
现在193讠要用29个镜头才能达到overlay 1.5 nm

Linjiaojiao 写了： 2024年 9月 17日 12:06 你会听Sb耗老师
光刻机的问题 就是光源功率问题 只有功率高 才能加镜头数才能把mask上的图形准确能缩小传到wafer上 消除各种他妈的我也不知道的什么鸟差
就象照像 高级相机各种大炮筒 纠正各种差 到最后对感光材料的光敏度可以提高
光刻胶光敏度无已到极限 无法提高 就这样
必须保证193在10-15 mj per cm 2
现在193讠要用29个镜头才能达到overlay 1.5 nm

Linjiaojiao 写了： 2024年 9月 17日 12:06 你会听Sb耗老师
光刻机的问题 就是光源功率问题 只有功率高 才能加镜头数才能把mask上的图形准确能缩小传到wafer上 消除各种他妈的我也不知道的什么鸟差
就象照像 高级相机各种大炮筒 纠正各种差 到最后对感光材料的光敏度可以提高
光刻胶光敏度无已到极限 无法提高 就这样
必须保证193在10-15 mj per cm 2
现在193讠要用29个镜头才能达到overlay 1.5 nm

krzkrz 写了： 2024年 9月 17日 12:03 笑死我了 一线工人的既视感

英亲王阿齐格 写了： 2024年 9月 17日 12:09 我不说了吗

镜片数目得问题 是镀膜解决得。 镀膜的学问很大的。 中国的镜头做不了高na，就是光学技术不行。

1 镀膜不行
2 玻璃不行，做不了大的

中国的落后 是全方位得落后。

hhcare 写了： 2024年 9月 17日 12:11 本来DUV跟EUV不同， EUV就没有这个材料问题。
你弄一炉子材料， 说不定得做两三年。 根本不值得。

上面方向就错了， 整个就是垃圾指挥。

wanmeishijie 写了： 2024年 9月 17日 12:12 EUV，传闻用加速器的同步辐射去做，可行否？

hhcare 写了： 2024年 9月 17日 09:09 线偏光二倍没有问题
镀膜随便搞搞那点就出来了。根本不需要一百二。说白了你就是傻逼。

光源最后看亮度
你亮度是别人三分之二
从光源到wafer 有好几十个surfaces
每个提高百分之零点一就够了。
肯定不是光源问题。

曝光时间提高点等等都是可调的。
丝毫不是问题的事情
被弃婴和你这傻逼造谣。

ASML 120瓦的euv 就开始挣钱了
Duv 四十瓦那是绝对足够的

wanmeishijie 写了： 2024年 9月 17日 12:12 EUV，传闻用加速器的同步辐射去做，可行否？

hhcare 写了： 2024年 9月 17日 11:54 我不是贴了吗？！

你他妈一个需要随时动的工作台， 清华几年只给上海一台。
就这一台还没有通过验收

你有脸说光源吗？！

krzkrz 写了： 2024年 9月 17日 12:23 我觉得你应该问林娇娇 她好像比较了解实际上的应用 耗子都是听别人说 看别人做 自己从来不上手

hhcare 写了： 2024年 9月 17日 11:52 石英不是为了防止紫外线， 而是不变黑。
普通玻璃远比石英更容易吸收紫外线。
基本上波长越短越容易吸收。
玻璃本来就是二氧化硅里面添加东西， 调节吸收和n
您老的知识是不是都来源于十万个为什么， 估计很多都是错的。

hhcare 写了： 2024年 9月 17日 12:09 你自己打脸吧。
overlay 1.5nm
线宽15
中国现在说的不是这个精度，
按照低精度， 哪里会需要29个镜片？！
说明现在的光源富富有余啊。

你就是自己打脸。

Linjiaojiao 写了： 2024年 9月 17日 12:06 你会听Sb耗老师
光刻机的问题 就是光源功率问题 只有功率高 才能加镜头数才能把mask上的图形准确能缩小传到wafer上 消除各种他妈的我也不知道的什么鸟差
就象照像 高级相机各种大炮筒 纠正各种差 到最后对感光材料的光敏度可以提高
光刻胶光敏度无已到极限 无法提高 就这样
必须保证193在10-15 mj per cm 2
现在193讠要用29个镜头才能达到overlay 1.5 nm