光刻胶这东西比光刻机难度要低一个数量级吧。
我不知道有没有搞出来。但是感觉这不是太难的事。
类似于千老做实验吧。这个真的可以大力出奇迹
我对国内EUV表示谨慎怀疑，因为
版主： Softfist
Re: 我对国内EUV表示谨慎怀疑，因为
肯定难度低得多，但先前就根本没想过EUV的事。
sishibuhuo 写了： 2023年 9月 15日 00:47 光刻胶这东西比光刻机难度要低一个数量级吧。
我不知道有没有搞出来。但是感觉这不是太难的事。
类似于千老做实验吧。这个真的可以大力出奇迹
Re: 我对国内EUV表示谨慎怀疑，因为
你不知道国内各层次的光刻胶都可以做，只是高端的被日本垄断，但是如果放开手脚要用国产的有试错机会那就可以快速发展了none 写了： 2023年 9月 14日 23:39 EUV用的光刻胶在国内完全没有影的事。
你们可能不懂，需要用的是分子玻璃光刻胶，
这一块国内空白。
7 nm可以使用ArFi实现。
这个还是DUV范畴。
最近讨论的光刻厂，
从物理上我看没什么问题，
从效率上也不是大事。
但现在谈EUV，是不是有点早？
别以为这个是多了不起的事情
Re: 我对国内EUV表示谨慎怀疑，因为
http://www.ipc.cas.cn/xwzx/kyjz/202101/ ... 73217.html
极紫外光刻胶”研发团队由化学所和理化所共同建立，是国内最早从事EUV光刻胶研发的专业团队。团队面向国家半导体产业重大需求，瞄准国外垄断的EUV光刻技术材料领域，着力研发EUV光刻胶材料和相关设备，解决半导体领域关键材料和设备“卡脖子”问题。团队先后承担了国家02专项、中国科学院先导项目和国家自然科学基金委项目的光刻胶研发任务，开发出具有国际先进水平和完全自主知识产权的EUV光刻胶，实现了从材料设计到中试生产的全流程，填补了国内技术空白。标志着我国在高端光刻胶领域已跻身世界先进行列，为国内半导体产业安全、国家经济安全和信息安全提供有力保障。
极紫外光刻胶”研发团队由化学所和理化所共同建立，是国内最早从事EUV光刻胶研发的专业团队。团队面向国家半导体产业重大需求，瞄准国外垄断的EUV光刻技术材料领域，着力研发EUV光刻胶材料和相关设备，解决半导体领域关键材料和设备“卡脖子”问题。团队先后承担了国家02专项、中国科学院先导项目和国家自然科学基金委项目的光刻胶研发任务，开发出具有国际先进水平和完全自主知识产权的EUV光刻胶，实现了从材料设计到中试生产的全流程，填补了国内技术空白。标志着我国在高端光刻胶领域已跻身世界先进行列，为国内半导体产业安全、国家经济安全和信息安全提供有力保障。
Re: 我对国内EUV表示谨慎怀疑，因为
1450殖人轮逼语录系列：
叔的凤凰卫视高层朋友告诉我 只要菊花一晚 就能告诉我秦刚内幕
- 纯属虚构 如有雷同 必为巧合 切勿对号入座
VladPutin是我爹 我以我爹赐名为荣
- 某买买提轮逼精神白人 / 切勿对号入座
洋人有特权，白妞特权还高一些。这要是黄妞，早被当地公安跨省了
中国不敢公布 所以证明中国基尼系数越来越高
- 某轮逼1450反串网友WxxxxMxxxSxxxJxxx
叔的凤凰卫视高层朋友告诉我 只要菊花一晚 就能告诉我秦刚内幕
- 纯属虚构 如有雷同 必为巧合 切勿对号入座
VladPutin是我爹 我以我爹赐名为荣
- 某买买提轮逼精神白人 / 切勿对号入座
洋人有特权，白妞特权还高一些。这要是黄妞，早被当地公安跨省了
中国不敢公布 所以证明中国基尼系数越来越高
- 某轮逼1450反串网友WxxxxMxxxSxxxJxxx
Re: 我对国内EUV表示谨慎怀疑，因为
7纳米光刻胶国产了none 写了： 2023年 9月 14日 23:39 EUV用的光刻胶在国内完全没有影的事。
你们可能不懂，需要用的是分子玻璃光刻胶，
这一块国内空白。
7 nm可以使用ArFi实现。
这个还是DUV范畴。
最近讨论的光刻厂，
从物理上我看没什么问题，
从效率上也不是大事。
但现在谈EUV，是不是有点早？
那个蝗菌不抢粮，你已在我黑名单里，别回老子贴，回老子贴，你就是个日你妈逼的乱伦畜生，每天和你爹3P你妈逼一万遍
Re: 我对国内EUV表示谨慎怀疑，因为
刚才看唐传祥的一个讲话，
说光刻胶改成没那么敏感的光刻胶，
加大光刻功率。
光刻胶这玩意，你得摸索很久的配方。
那里面不止光敏成分，还有其他调节粘附性、流滞性等性质的，
先有光刻机，然后才能相应配套针对不同光刻产品开发不同光刻胶配方。
说光刻胶改成没那么敏感的光刻胶，
加大光刻功率。
光刻胶这玩意，你得摸索很久的配方。
那里面不止光敏成分，还有其他调节粘附性、流滞性等性质的，
先有光刻机，然后才能相应配套针对不同光刻产品开发不同光刻胶配方。
Re: 我对国内EUV表示谨慎怀疑，因为
唐传祥可能不太了解光刻胶，简单化了。
这玩意不是说你加大紫外线功率就能对没那么敏感的光刻胶产生同样的效果的。
resolution和对比度/陡度这些参数，紫外线能量高了会导致降低，
没那么容易调的。
这玩意不是说你加大紫外线功率就能对没那么敏感的光刻胶产生同样的效果的。
resolution和对比度/陡度这些参数，紫外线能量高了会导致降低，
没那么容易调的。
none 写了： 2023年 9月 15日 10:47 刚才看唐传祥的一个讲话，
说光刻胶改成没那么敏感的光刻胶，
加大光刻功率。
光刻胶这玩意，你得摸索很久的配方。
那里面不止光敏成分，还有其他调节粘附性、流滞性等性质的，
先有光刻机，然后才能相应配套针对不同光刻产品开发不同光刻胶配方。
Re: 我对国内EUV表示谨慎怀疑，因为
这个就是高分子材料嘛，生化环材坑了不少中国理科生，但是人才储备应该是有的none 写了： 2023年 9月 15日 10:59 唐传祥可能不太了解光刻胶，简单化了。
这玩意不是说你加大紫外线功率就能对没那么敏感的光刻胶产生同样的效果的。
resolution和对比度/陡度这些参数，紫外线能量高了会导致降低，
没那么容易调的。
这一块没有高深没人懂的理论，就是个工程问题，有市场，有钱，有时间，有人才，很快会出来的
