新未名空间

所有的光学成像系统

这个孔径值是个最重要的指标，这玩意决定了分辨率。你看显微镜镜头，高NA的比低NA的贵很多。 照相机镜头，光圈值小（也就是孔径大的）也是贵很多阿，因为做起来复杂多了，离轴角大 像差就大，就需要更复杂的光学设计 矫正像差。

verdelite 写了： 2024年 8月 8日 23:51 我倒是有个想法。其实EUV的光源不需要是点光源。最关键的高精度光学系统只是照亮掩膜到成像到芯片这个过程。而前面照亮的光学系统不需要是高精度的，不是关键的。

如果中国弄的EUV光源不太亮，就多弄几个。两个激光分别打两个靶，两个靶相距1厘米，就可以发出两倍光亮度。再不行就来四个。

放那镜子就是要消除色差 相差 什的鸟东西 你再来两个光源 全乱了

Linjiaojiao 写了： 2024年 8月 8日 23:54 放那镜子就是要消除色差 相差 什的鸟东西 你再来两个光源 全乱了

两个光源为啥乱了？

verdelite 写了： 2024年 8月 8日 23:51 我倒是有个想法。其实EUV的光源不需要是点光源。最关键的高精度光学系统只是照亮掩膜到成像到芯片这个过程。而前面照亮的光学系统不需要是高精度的，不是关键的。

如果中国弄的EUV光源不太亮，就多弄几个。两个激光分别打两个靶，两个靶相距1厘米，就可以发出两倍光亮度。再不行就来四个。

照明当然很重要

说实话 我对中国出来的phd阿， 水平真是没信心。 连光刻机 等于一个显微镜倒着用这个本质，都没认识到。

我看那个sam zeloof，高中生，在车库里 用显微镜搭出个小光刻机，一看人家高中生这认知，就比什么中国这些phd强太多了。

说实话的，不知道光刻机怎么搞得，买个高级显微镜 研究研究，看看这照明光路有多复杂。 显微镜物镜镜头。找个高级的那种，大na的，拆开看，测量下几个光学镜片，曲率都是什么。 把这些光学设计参数 就能拿来当光刻机镜头设计的起点。

英亲王阿齐格 写了： 2024年 8月 8日 23:59 照明当然很重要

说实话 我对中国出来的phd阿， 水平真是没信心。 连光刻机 等于一个显微镜倒着用这个本质，都没认识到。

我看那个sam zeloof，高中生，在车库里 用显微镜搭出个小光刻机，一看人家高中生这认知，就比什么中国这些phd强太多了。

说实话的，不知道光刻机怎么搞得，买个高级显微镜 研究研究，看看这照明光路有多复杂。 显微镜物镜镜头。找个高级的那种，大na的，拆开看，测量下几个光学镜片，曲率都是什么。 把这些光学设计参数 就能拿来当光刻机镜头设计的起点。

你这观点跟耗老师一至 耗老师自称做过显微境 就是光刻机专家
光学系统是光刻机最容易
看起来最容易的工作台其实才最难 这点耗老师应该没有异议
光源也很难 一个稳定无黑班的光源要几千小时不变。当然耗老师在赛毛 想办法把赛毛的主机硬盘偷走就解决所有问题

Linjiaojiao 写了： 2024年 8月 9日 00:06 你这观点跟耗老师一至 耗老师自称做过显微境 就是光刻机专家
光学系统是光刻机最容易
看起来最容易的工作台其实才最难 这点耗老师应该没有异议
光源也很难 一个稳定无黑班的光源要几千小时不变。当然耗老师在赛毛 想办法把赛毛的主机硬盘偷走就解决所有问题

EUV光刻机和DUV光刻机有所不同，它只能用反射镜。

Linjiaojiao 写了： 2024年 8月 9日 00:06 你这观点跟耗老师一至 耗老师自称做过显微境 就是光刻机专家
光学系统是光刻机最容易
看起来最容易的工作台其实才最难 这点耗老师应该没有异议
光源也很难 一个稳定无黑班的光源要几千小时不变。当然耗老师在赛毛 想办法把赛毛的主机硬盘偷走就解决所有问题

运动控制的 同步速度 我估计得在ns 级别吧。

mask和wafer 一起动，这个同步很吓人的。

一般的cnc 机床，那个运动控制的反馈是在ms级别，也就是每ms测一下位移和速度，然后反馈到驱动电机上，控制电机的驱动电流 频率 电压。

要想做到nm级别的同步精度，我估计激光干涉仪 得做到ns级别的读取吧，然后整个反馈控制 肯定是ns级别的，估计都是asic 硬实现 。

英亲王阿齐格 写了： 2024年 8月 9日 00:18 运动控制的 同步速度 我估计得在ns 级别吧。

mask和wafer 一起动，这个同步很吓人的。

一般的cnc 机床，那个运动控制的反馈是在ms级别，也就是每ms测一下位移和速度，然后反馈到驱动电机上，控制电机的驱动电流 频率 电压。

要想做到nm级别的同步精度，我估计激光干涉仪 得做到ns级别的读取吧，然后整个反馈控制 肯定是ns级别的，估计都是asic 硬实现 。

Mask不动
最难是193工作台 运动极快
EUV扫描慢 稳定要求更高

日军又要在关键时刻挽救党？

ukuh 写了： 2024年 8月 9日 00:42 日军又要在关键时刻挽救党？

跟耗老师一样做模特似 虚拟世界什么都有

Linjiaojiao 写了： 2024年 8月 9日 00:44 跟耗老师一样做模特似 虚拟世界什么都有

耗老师有华为的强大后台

日军没法比

确实很牛逼，请问那是 duv 还是 euv? 甩鳖国国产光刻机几条街？

英亲王阿齐格 写了： 2024年 8月 8日 23:59 照明当然很重要

说实话 我对中国出来的phd阿， 水平真是没信心。 连光刻机 等于一个显微镜倒着用这个本质，都没认识到。

我看那个sam zeloof，高中生，在车库里 用显微镜搭出个小光刻机，一看人家高中生这认知，就比什么中国这些phd强太多了。

说实话的，不知道光刻机怎么搞得，买个高级显微镜 研究研究，看看这照明光路有多复杂。 显微镜物镜镜头。找个高级的那种，大na的，拆开看，测量下几个光学镜片，曲率都是什么。 把这些光学设计参数 就能拿来当光刻机镜头设计的起点。

日本的芯片打印机应用拓展如何了？

当年我说党妈的ArF准分子激光器功率不足，
耗子立马挖坑我说可以用几个激光器提高亮度
这不就是你这方法么
LOL

真可行么？

verdelite 写了： 2024年 8月 8日 23:51 我倒是有个想法。其实EUV的光源不需要是点光源。最关键的高精度光学系统只是照亮掩膜到成像到芯片这个过程。而前面照亮的光学系统不需要是高精度的，不是关键的。

如果中国弄的EUV光源不太亮，就多弄几个。两个激光分别打两个靶，两个靶相距1厘米，就可以发出两倍光亮度。再不行就来四个。

英亲王阿齐格 写了： 2024年 8月 8日 23:36 这种分辨率的光学成像系统，景深是非常小的，肯定是几纳米级别的景深。

这个简化版光学系统，无非是减少光圈（减少光学系统设计的复杂度），但这是有代价的，光刻胶必须一定剂量的光子才能曝光。这种简化版光学，最简单版本就是小孔成像，一个很小孔就可以，不需要什么透镜这种光学器件。
当然问题是，光通量太小，曝光时间太长。 再加上几纳米景深，这个就对减震系统和运动控制系统这些机械部件的要求太高了

小孔成像的孔径就是小孔的直径吧，早被淘汰了。

英亲王阿齐格 写了： 2024年 8月 8日 23:36 这种分辨率的光学成像系统，景深是非常小的，肯定是几纳米级别的景深。

这个简化版光学系统，无非是减少光圈（减少光学系统设计的复杂度），但这是有代价的，光刻胶必须一定剂量的光子才能曝光。这种简化版光学，最简单版本就是小孔成像，一个很小孔就可以，不需要什么透镜这种光学器件。
当然问题是，光通量太小，曝光时间太长。 再加上几纳米景深，这个就对减震系统和运动控制系统这些机械部件的要求太高了

你学过光学没有？小孔成像的理论景深是无穷大

弃婴千枝 写了： 2024年 8月 9日 10:59 你学过光学没有？小孔成像的理论景深是无穷大

你学过语文没有

"这种简化版光学系统的
最简单形式是小孔成像"

我说这个带几个反射镜的简化版 是小孔成像了?

我说的最简单的形式是小孔成像

弃婴千枝 写了： 2024年 8月 9日 10:41 当年我说党妈的ArF准分子激光器功率不足，
耗子立马挖坑我说可以用几个激光器提高亮度
这不就是你这方法么
LOL

真可行么？

当然可以通过几个激光器并联提高功率

光纤激光就是这么搞得

但需要复杂的光学系统把光源并联起来。

Euv波段的问题是， 光学系统效率太低， 镜子反射面最高效率也只有百分之70。 多增加的光源 可能被多增加光学系统的损耗 给抵消了。

Scraper 写了： 2024年 8月 9日 01:21 确实很牛逼，请问那是 duv 还是 euv? 甩鳖国国产光刻机几条街？

不懂
没接触过国产光刻机

英亲王阿齐格 写了： 2024年 8月 10日 12:12 你学过语文没有

"这种简化版光学系统的
最简单形式是小孔成像"

我说这个带几个反射镜的简化版 是小孔成像了?

我说的最简单的形式是小孔成像

行了，别满地打滚了