新未名空间

弃婴千枝写了： 2024年 9月 26日 16:18 所以平移精度和光学精度都是14nm的设备，只要其中之一达到7nm，就能刻出7nm线宽的芯片

如何平移 7 纳米?

Resolution是光刻机众多指标中最不重要的一个

其他overlay
相差 xx差重要
因为是从 mask transfer这个图案
所以这台光刻机做65nm都够呛整个电路是变形的

Puerto Rico 写了： 2024年 9月 26日 16:21 如何平移 7 纳米?

有双工台

弃婴千枝写了： 2024年 9月 26日 16:18 所以平移精度和光学精度都是14nm的设备，只要其中之一达到7nm，就能刻出7nm线宽的芯片

半导体工艺过程出了弃老师的知识范围

搞笑，只是提供一种实现超越光学分辨率的方案而已而已
说明airy斑并不能限制分辨率
看把你给激动的

Linjiaojiao 写了： 2024年 9月 26日 16:30 半导体工艺过程出了弃老师的知识范围

更常用的spacer

你应该问193nm光源光刻机

他憋实际还造不出来

他憋能国产的，还是只有248nm光源光刻机

idea911 写了： 2024年 9月 26日 11:35 懂的来说说

弃婴千枝写了： 2024年 9月 26日 16:35 搞笑，只是提供一种实现超越光学分辨率的方案而已而已
说明airy斑并不能限制分辨率
看把你给激动的

要做出。1:1
Li ne to treach
否则over expose就可以做出你那东西

midlander 写了： 2024年 9月 26日 15:43 现在是浸水或者油实现

现在镜头n 限制只能水不是把水换成油那么简单
要长出n大于1.4 全新材料大于两米对193nm吸射小于1%的晶体对人类来说是黑科技
想不出鳖有什么高招

65nm光刻机最高能制造多少nm的芯片？