#21 Re: 世界日报:高盛报告指土共光刻机仍停留在65纳米,至少落后ASML20年,而荷兰制造商ASML依赖于美国原产的关键零组件
耗子衷心报国。
新买买提,海外华人中文论坛
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耗子衷心报国。
看来中国没有耗子不行
中国做不出光刻机是因为没有耗子,这个能证伪吗?好像只要耗子不回国就不能证伪
看看15年前,高盛怎么评价太阳能的?
吧
这是在套情报
又来一个装逼的
不到10年前,怎么说ev 电池。。。。。。呢?
急需@dashabi01创作一套新图
啥都不说,干就完了
工业学大庆
你的国内朋友警惕性很能高,都防着你呢
五毛会装逼
除了自媒体,没人说光刻机了
“高盛反着买,别墅靠大海”
美国官方,F35电脑芯片。90纳米制程
光刻机的光源波长 跟 制程的尺度,不是一回事。
28nm、7nm的制程,并不需要28nm、7nm的光。
28nm的制程,光刻机一般用的是193nm的光。
现在土共有65nm的光刻机,那不得了了。
美积电用的EUV光刻机,波长是13.5nm。
jb 写了: 2025年 9月 4日 20:33光刻机的光源波长 跟 制程的尺度,不是一回事。
28nm、7nm的制程,并不需要28nm、7nm的光。
28nm的制程,光刻机一般用的是193nm的光。
现在土共有65nm的光刻机,那不得了了。美积电用的EUV光刻机,波长是13.5nm。
不存在65纳米的光刻机,这种光源不存在。
突破90nm了,有进步
所以,这份所谓高盛报告,可能也是假的。
世界日报。。。。。。。。。。。。。。。。
这样我就放心了。