你这段话有问题。用平型光(例如日光)来照射景物,对比用非平行光(例如大型射灯)照射景物,对照相机来说,不影响景深。中国共产党未命空间党小组 写了: 2023年 1月 3日 15:42 平行光能提高成像分辨率。
我还是拿照相机做比方, 照相机有个背景虚化的概念。
如果光刻机 也存在各种不同平行度的光线, 那么景深范围之外的 东西也会被虚化 而不是精确成像。
考虑到掩模的层厚, 微米级别 和 光刻机 纳米级别的景深。 显然大部分掩模会在景深之外 而被模糊成像(也就是虚化)。
如果是平行光照射就不存在这个问题。
光刻机中,“光”部分的猜测
版主: verdelite, TheMatrix
Re: 光刻机中,“光”部分的猜测
没有光子;也没有量子能级,量子跃迁,量子叠加,量子塌缩和量子纠缠。
Re: 光刻机中,“光”部分的猜测
那我们水平差不多。我觉得你认为照明系统需要点光源,或者平行光源且其镜片需要超高精度,这看法是不对的。
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Re: 光刻机中,“光”部分的猜测
刚才我们讨论的显微镜照明系统,里面两个光圈,都不是控制光线平行度的。一个是控制照明区域大小的,一个是控制明暗的。中国共产党未命空间党小组 写了: 2023年 1月 3日 17:24 我水平明显比你高。
你学了 不知道思考, 连点都抓不住。
显微镜照明系统 光圈就好几个, 干啥用的? 还不是控制光线平行度, 就是控制近轴光线的。
别说显微镜了, 就是x光衍射这种系统, 虽然不是透镜成像, 靠的是小孔成像。 也是要把x射线尽量弄成平行的, 叫collimator
你前面几贴,说透视反射的,都没有讨论我提出的“EUV光刻机从 示意图上看是反射光线成像的”这事。
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Re: 光刻机中,“光”部分的猜测
我说的是,DUV是用mask的透射光成像,但是EUV是用mask的反射光成像。中国共产党未命空间党小组 写了: 2023年 1月 3日 17:52 因为再说照明系统啊
照明系统需要产生平行光。
至于后面是透镜成像 还是反射镜成像 那不是照明系统的问题了啊。
不管是透镜成像 还是反射镜成像, 那个都是基于无限远设计得,也就是基于平行光线设计得。
因为光线入射角度一变大 很多假设都不成立了
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Re: 光刻机中,“光”部分的猜测
我说的是,景深和照射系统无关。中国共产党未命空间党小组 写了: 2023年 1月 3日 18:04 我为什么要提景深?
因为景深之外的掩模成像是模糊一片, 这种"背景虚化" 在照相机是好事, 但在光刻机里是坏事。
本来一条锐利的直线, 因为景深原因一成像变成高斯扩散那种效果, 还造个屁电路。
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Re: 光刻机中,“光”部分的猜测
你这说法自成一体,和实际情况符合度有多少我不知道。只好暂时存疑。中国共产党未命空间党小组 写了: 2023年 1月 3日 18:17 平行光景深无限大, 这个承认了吧?
为了获取平行光要怎么做?
把掩模放到成像光学系统前无限远的位置?
这显然是不可能得。
那么就让掩模反射的光线是平行光不就行了吗。
掩模反射的光线 哪来的?
照明系统来的。
Got it?
主要原因是mask(假设物像比4:1)线宽28纳米的话,其反射的13.5纳米的光线,已经衍射效应强大,就算入射的是平行光,反射的多大程度上还算平行光,不是很清楚。对成像效果的影响如何还得看看实际情况是怎样的。
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Re: 光刻机中,“光”部分的猜测
你问我的是一个我不知道的问题。
我只是觉得,就算平整度很好,有反光和无反光的交界处,还是会有衍射效应,造成反射光的波前不是平面的。
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