#41 Re: 清华大学首次公布国产光刻机双工件台进展:达到阿斯麦EUV光刻同类水平,工件台全位姿皮米精度、光刻机亚纳米精度、高动态位移
发表于 : 2025年 9月 26日 09:32
剩下10%用来校准维护
正常两周停机半天整体95%附近使用率
新买买提,海外华人中文论坛
https://newmitbbs.com/
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这次叔挺谢老师
清华的老是跟北大的耗子对着干
大学做光刻机,听着就是骗子
清华人的成果逼得耗子的精神分裂症状越来越严重了
暴击吧了,笑死
大家可以继续拿耗子来逗乐,千万别当真。在上次关于EUV成像系统的讨论中,耗子和一些本论坛的科技名人居然连EUV镜面反射的基本原理都不知道,只看了几眼wiki 就敢评论,暴露后就转移话题。你当国内人是傻子啊,没人要他太说明问题了。
RobotII 写了: 2025年 9月 26日 12:51大家可以继续拿耗子来逗乐,千万别当真。在上次关于EUV成像系统的讨论中,耗子和一些本论坛的科技名人居然连EUV镜面反射的基本原理都不知道,只看了几眼wiki 就敢评论,暴露后就转移话题。你当国内人是傻子啊,没人要他太说明问题了。
所以我一直确认耗子有精神问题