Linjiaojiao 写了： 2025年 9月 18日 01:12世界在动 振动会糊了影像
所以曝光必须快
这又扯出另一项关键技术 工作台
土鳖到底行不行 没人知道
见耗老师天天在骂青蛙做工作台的
鳖国肯定死于工作台
我猜
尼玛清华才是真的卡脖子
似乎那个带头人是煤炭还是铁道的4+4
据内部人说清华那个系其实极烂
似乎十几年只交了一个工作台给上微啥的
似乎想上市被阻止。。
尼玛的，中国光刻机不完蛋才见鬼。
咳咳咳，我只是外面看看
个人看法
不仅仅是一个产能低的问题，你在光刻机上呆的时间太长，不仅影响曝光的uniformity, wafer被送到显影的时候缺陷也会被放大。
因为曝光的时候，光刻胶里含酸功能团已经在扩散了
hhcare 写了： 2025年 9月 17日 11:40大家还是外行，被土鳖骗的一愣一愣的。
机器重要在能完全替代才行。
当年我在kla 做的时候，Hitachi 先做出来放Intel ，人家英特尔根本不着急，等kla 的产品。
当然kla核心是耗子做的。
据说直接把hitachi 打落地下吃屎人家立马买KLA 的
Hitachi 还在吗?具体内行做东西其实很简单。。土鳖不懂得还不问问内行
吹不了几年了
snowman 写了： 2025年 9月 18日 01:15不仅仅是一个产能低的问题，你在光刻机上呆的时间太长，不仅影响曝光的uniformity, wafer被送到显影的时候缺陷也会被放大。
因为曝光的时候，光刻胶里含酸功能团已经在扩散了
功率低都是你们瞎猜的吧。我知道功率至少90W了。
官方数字
hhcare 写了： 2025年 9月 18日 01:14鳖国肯定死于工作台
我猜
尼玛清华才是真的卡脖子似乎那个带头人是煤炭还是铁道的4+4
据内部人说清华那个系其实极烂
似乎十几年只交了一个工作台给上微啥的
似乎想上市被阻止。。尼玛的，中国光刻机不完蛋才见鬼。
咳咳咳，我只是外面看看
个人看法
我也觉工作台最难 这东西太神奇 居然能连着动两周才需校准
snowman 写了： 2025年 9月 18日 01:15不仅仅是一个产能低的问题，你在光刻机上呆的时间太长，不仅影响曝光的uniformity, wafer被送到显影的时候缺陷也会被放大。
因为曝光的时候，光刻胶里含酸功能团已经在扩散了
TPS C8曝光后产生的超强酸很重 在室温下不会移动 也不会与马blocked acid，quercher 反应
所以扩散与反应都在 100 C 左右发生
这是帝动用康耐尔与布鲁克海文两台加速器才screen出来的
Linjiaojiao 写了： 2025年 9月 18日 01:32TPS C8曝光后产生的超强酸很重 在室温下不会移动 也不会与马blocked acid，quercher 反应
所以扩散与反应都在 100 C 左右发生
这是帝动用康耐尔与布鲁克海文两台加速器才screen出来的
Quencher有帮助但也只是某种程度上的。
你曝光太慢整个wafers上每个field idle时间不一样肯定影响uniformity
90W 足够了，ASML DUV也就90-120
关键干式DUV基本肯定是有了。浸润式光源来说功率没有本质区别，关键是稳定性上一个台阶。
工作台才是超级难啊，因为涉及了在保证生产效率前提下的空间，时间的校准
工作台一直都是进度乐观的那一项。 光源和光学系统才是落后的， 好像还有专利问题。