新未名空间

本次Kirin9000S所使用的工藝為中芯國際N+1改進版，密度98百萬晶體管/mm2。晶體管密度在台積電N7P和N6之間，高頻能耗比較差僅相當于三星8LPP

是用了103億晶體管的7nm落後工藝做出了與5nm、153億晶體管的Kirin9000相當的新SOC

這個單管的特徵尺寸數據基于台積電N10(66/44)和N7duv(54/40)之間

但是通過協同優化實現了6t庫和sdp技術，從而把整體密度拉到了100Mtr左右，超過了台積電N7。使得晶體管密度在N7P和N6之間。”

晶體管密度比台積電和三星的7nm還要多

大致有兩種可能，一種是國產EUV光刻機實現突破，另一種是芯片制造商在DUV上，採用了特殊“魔法”

oldmo 写了： 2023年 9月 9日 17:09 晶體管密度比台積電和三星的7nm還要多

三星比较拉跨，4nm LPP还不如台积电N6

啥时候拍样品的电镜也是国产的就更牛了

能教授不做结构了，做芯片去了

(ッ) 写了： 2023年 9月 9日 17:10 三星比较拉跨，4nm LPP还不如台积电N6

这方面似乎intc最好印象中它的7nm密度有120m/mm

superdsb 写了： 2023年 9月 9日 17:36 啥时候拍样品的电镜也是国产的就更牛了

等本子的厂子不行了，买过来就好了

偷了武汉那台EUV

superdsb 写了： 2023年 9月 9日 17:36 啥时候拍样品的电镜也是国产的就更牛了

这个图片用扫描电镜就够了
国内已经有商业化产品了
透射电镜还不行

稳了？

superdsb 写了： 2023年 9月 9日 17:36 啥时候拍样品的电镜也是国产的就更牛了

哈哈

中国共产党未命空间党小组 写了： 2023年 9月 9日 18:00 这种分辨率的sem是很顶级的

一般sem没这么高分辨率

顶级个啥
你看那比例尺，触点的宽度算25nm好了
再看那图像，十个点左右吧
也就是分辨率2.5nm
在扫描电镜中，算一般的分辨率吧
国产扫描电镜现在就是这个水平

cellcycle 写了： 2023年 9月 9日 17:39 能教授不做结构了，做芯片去了

以后专给芯片拍裸照。

说明呆机电在制程上造假。

这个crosscut制样水平一般啊
应该叫催叫兽或者能叫兽组里的钱老改进一下制样水平

7N+2, 还是可以被制裁住？

华为这把把弟打蒙了。这条路打通后鳖一年一千多亿美金芯片采购基本不会流外人田了，现在就已经砍单砍的日韩台大萧条了

FunnyJoe 写了： 2023年 9月 9日 19:29 不会这么快吧。。。 没听说 现在就砍单了🤔

这就属于还没落地的那只鞋子，不确定性就能搞死人。