新未名空间

笑抽了，人工智障把AI翻译成A1

我以为你说的是包叔

当年的莫斯科部落征服了其他的部落

英亲王 写了： 2025年 9月 18日 13:46

你看楼上 就是中国诡辩术一个鲜活例子

胡搅蛮缠 偷换概念

人家说a，他说b

你说的好像就是你自己， 他只是起了一个话题，你在反驳，用的是诡辩术，而且没有逻辑.

这位楼主是不是没有文化，听自媒体新闻长大的？

是干还是湿都不敢说，Dry DUV 只能生产65nm

中国现在有ASML Immersion DUV, 多重曝光可以生产7nm. 如果这台设备都做不了5nm，凭什么国产的就能？

如果真有，早官宣了。谁相信这种野鸡自媒体，真他妈的弱智

耗子啊，你是不是上海交大的那个陈进？搞测试的自认为能造芯片，最后手磨了一个汉芯。这光刻机你是不是也要打磨一个？

labi 写了： 2025年 9月 17日 11:42

kla是啥，没听过。
Hitachi知道。

KLA-Tencor, 一家检测设备公司，做 metrology 的

大妈们看到"完了"，就认定这个网站完了

法国核聚变刚刚创了新纪录，持续22分钟，超过中国25%

存储芯片EUV光刻机是必须的，美光已经准备启用第二代High NA EUV，距离只会越来越大。

Terminal-1 写了： 2025年 9月 4日 20:56

世界日报。。。。。。。。。。。。。。。。

这样我就放心了。

高盛原文在这里：

jb 写了： 2025年 9月 4日 20:54

所以，这份所谓高盛报告，可能也是假的。

高盛报告的意思是，中国自产的光刻机只能生产65nm的芯片。也就是说，中国目前只能制造193nm dry的光刻机，这是西方20年前的技术。

jb 写了： 2025年 9月 4日 20:33

光刻机的光源波长 跟 制程的尺度，不是一回事。

28nm、7nm的制程，并不需要28nm、7nm的光。

28nm的制程，光刻机一般用的是193nm的光。
现在土共有65nm的光刻机，那不得了了。

美积电用的EUV光刻机，波长是13.5nm。

不存在65纳米的光刻机，这种光源不存在。

确实是蠢人太多了，现代社会接受高等教育的人，还相信这种糟粕

别把自媒体新闻当新闻

Junk

happens 写了： 2025年 8月 26日 20:46

要用稀土不？

不需要

DongshanGe 写了： 2025年 8月 26日 20:41

2nm的厂有中国设备。

说好的，中国技术差呢。

2nm芯片制造也有前端，中端和后端。最后端的尺寸很大，可以用旧设备