OIST 的简化 EUV 光刻系统使用两个反射镜而不是六个。
冲绳科学技术大学（OIST）的Tsumoru Shintake教授提出了一种全新的、大大简化的EUV光刻工具，比ASML开发和制造的工具更便宜。如果该设备进入大规模生产，它可能会重塑芯片制造设备行业，如果不是整个半导体行业的话。
新系统的光学投影设置仅使用两个反射镜，与传统的六反射镜配置有很大不同。这种光学系统的挑战在于，它涉及将这些反射镜对准一条直线，这确保了系统保持高光学性能，而不会出现与EUV光相关的通常失真。新的光路允许超过 10% 的初始 EUV 能量到达晶圆，而标准设置中约为 1%，这一改进是一个重大突破。
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Shintake教授的团队解决了EUV光刻的两大挑战：防止光学像差和确保有效的光传输。OIST 的“双线场”方法在不干扰光路的情况下照亮光掩模，从而最大限度地减少失真并提高硅晶圆上的图像精度。
这种极简设计的主要优点之一是它提高了可靠性并降低了维护复杂性。这种 EUV 光刻工具设计的另一个优点是大幅降低了功耗。得益于优化的光路，该系统仅使用20W的EUV光源运行，总功耗不到100kW。相比之下，传统的EUV光刻系统通常需要超过1MW的功率。由于功耗较低，新的光刻系统不需要复杂且昂贵的冷却系统。
这种新系统的性能已经通过光学模拟软件进行了严格验证，证实了其生产先进半导体的能力。该技术的潜力已导致OIST提交了专利申请，表明已经准备好进行商业部署。
OIST致力于进一步推进其EUV工具设计，旨在将其付诸实践。该研究所认为，这项创新是解决全球挑战的重要一步，例如影响环境的芯片生产成本和半导体晶圆厂的功耗。
这项发明的经济意义是有希望的。全球EUV光刻市场预计将从2024年的89亿美元增长到2030年的174亿美元。通过这种简化的 EUV 工具设计，该行业可以在未来几年采用更多的 EUV 系统。然而，目前尚不清楚OIST离其工具的商业化有多近
