科普一下分辨率,套刻,线宽, 和双重曝光

对应老买买提的军事天地,观点交锋比较激烈。因为此版帖子太多,所以新帖不出现在首页新帖列表,防止首页新帖刷屏太快。

版主: Softfist

wanmeishijie(石昊)
论坛元老
论坛元老
wanmeishijie 的博客
帖子互动: 2132
帖子: 69433
注册时间: 2022年 12月 10日 23:58

#23 Re: 科普一下分辨率,套刻,线宽, 和双重曝光

帖子 wanmeishijie(石昊) »

叔这个科普将军们不怎么待见。

前几天看到8nm套刻就弹冠相庆,连耗子都跟着起哄

现在在转国内的“理智”分析

尼玛国内也是看了叔的讲解才写出来
………………
狂赞
图片
理解了老将是代入狗的视角之后,你就理解了老将
viewtopic.php?t=120513

理解了它们是代入狗的视角之后,它们为什么会嘲笑不愿意当狗的人,以及为什么会害怕想要反抗的人,就都可以理解了:
“放着好好的狗不当” :lol:
英亲王阿齐格(和硕亲王)
自助冻结自助冻结
帖子互动: 314
帖子: 4829
注册时间: 2024年 7月 10日 21:36

#24 Re: 科普一下分辨率,套刻,线宽, 和双重曝光

帖子 英亲王阿齐格(和硕亲王) »

奸其妻女忍,刨其祖坟忍,夺其地屋忍,此等贱民何足惧哉?
头像
snowman(*^_^*)楼主
论坛元老
论坛元老
帖子互动: 1313
帖子: 21933
注册时间: 2022年 10月 25日 14:10

#25 Re: [转载] 国内(2023年)的先进光刻机数量(非存储)

帖子 snowman(*^_^*)楼主 »

truth 写了: 2024年 9月 16日 16:53 NA: Numerical Apperture, ArF: Argon Fluoride, MMO: Mix & Match Overlay, WPH: Wafers Per Hour

这图上也有明显的错误,如EUV的型号NXE3400/3600写成了NXT3400/3600。但是关于国内先进光刻机分布的数据,还是有参考价值的。

另外可参看网页:http://finance.sina.com.cn/cj/2023-09-0 ... 5008.shtml

图片

图片

图片

图片

这篇文章对于很多技术问题都是一带而过,对于overlay的解释更是简单化了
krzkrz
著名点评
著名点评
帖子互动: 262
帖子: 5026
注册时间: 2023年 5月 17日 08:42

#26 Re: [转载] 国内(2023年)的先进光刻机数量(非存储)

帖子 krzkrz »

snowman 写了: 2024年 9月 16日 23:00 这篇文章对于很多技术问题都是一带而过,对于overlay的解释更是简单化了

图片


这个呢

图片

图片
1450殖人轮逼语录系列:

叔的凤凰卫视高层朋友告诉我 只要菊花一晚 就能告诉我秦刚内幕
- 纯属虚构 如有雷同 必为巧合 切勿对号入座


VladPutin是我爹 我以我爹赐名为荣
- 某买买提轮逼精神白人 / 切勿对号入座


洋人有特权,白妞特权还高一些。这要是黄妞,早被当地公安跨省了
中国不敢公布 所以证明中国基尼系数越来越高


- 某轮逼1450反串网友WxxxxMxxxSxxxJxxx
头像
snowman(*^_^*)楼主
论坛元老
论坛元老
帖子互动: 1313
帖子: 21933
注册时间: 2022年 10月 25日 14:10

#27 Re: [转载] 国内(2023年)的先进光刻机数量(非存储)

帖子 snowman(*^_^*)楼主 »

krzkrz 写了: 2024年 9月 16日 23:02 图片


这个呢
只能说要根据具体曝光的图案和层级决定。

简单line/space的一维层级的工艺现在大多都是自对准(虽然叫多重曝光,其实是通过cvd和蚀刻实现的pitch halfing),对于自对准的层级,overlay 仅取决于首次曝光层级和上一对准层的要求。

还是拿晶体管source 和接触pin, 来举例,如果晶体管门外层绝缘体对于pin 的蚀刻是选择性材料,你的overlay budget 用线宽50%也没问题

简单说就是视情况而定,多重曝光也可以对overlay 的要求很宽松。

最具挑战性的其实是二维层级(routing layer)

BTW, 你引的文中双重曝光的例子误导,真实世界中没有这么作的。 工艺挑战性太大
回复

回到 “军事天地(Military)”