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#21 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 22:52
红烧川粉
verdelite 写了: 2025年 2月 8日 22:49 草。。。耗子伪装的专家,150nm基本上就找不到透射的材料了,更何况13.5nm
这哥们不是北大球系的嘛,球系连正经物理都没学全懂个球光刻机。

#22 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 22:52
hhcare
弃婴千枝 写了: 2025年 2月 8日 22:52 核心原因是x射线只能掠射的时候才能与镜面有效作用

所以镜子的曲率都很小,所以为了成像需要多次反射
理屈词穷又跑X上去了。

#23 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 22:53
弃婴千枝
hhcare 写了: 2025年 2月 8日 22:51 因为不是反射14次, 如果你说EXE可能接近, 但是EXE我是从来看着都失败的产品
。。。。。我不是第一次说EXE会失败的,

intel会死在这上面。
14次还是9次都不是关键,
说的是为什么要这么多次

核心问题是x射线只能掠射

嘿嘿、

耗子懂个鸡巴

#24 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 22:56
superdsb
EUV(极紫外)光刻机的光路设计是其核心技术之一,涉及复杂的光学系统和精密的光学元件。以下是EUV光刻机光路设计的具体细节,包括光路的各个阶段和反射镜的作用。

1. EUV光刻机光路概述

EUV光刻机的光路可以分为以下几个主要阶段:

光源到照明系统:将EUV光从光源引导到照明系统。
照明系统到掩模版(Reticle):将光线均匀化并照射到掩模版上。
掩模版到投影光学系统:将掩模版上的图案通过投影光学系统缩小并投射到晶圆上。
在整个光路中,光线需要经过多次反射(通常为13-14次),以确保光线的均匀性、聚焦精度和成像质量。

2. 具体光路设计

阶段1:光源到照明系统

光源:EUV光刻机使用LPP(激光激发等离子体)光源,通过高功率CO₂激光轰击锡滴产生13.5纳米的EUV光。
收集镜(Collector Mirror):
光源发出的EUV光首先被一个椭球形的收集镜反射。
收集镜的作用是将发散的光线聚焦并引导到照明系统。
反射次数:1次。
阶段2:照明系统到掩模版

照明系统:
照明系统由多个反射镜组成,用于将光线均匀化并调整其角度分布。
主要反射镜包括:
场镜(Field Mirror):用于调整光线的空间分布。
光瞳镜(Pupil Mirror):用于调整光线的角度分布。
反射次数:4-6次。
掩模版(Reticle):
光线经过照明系统后,照射到掩模版上。
掩模版上刻有芯片的图案,光线通过掩模版后携带图案信息。
阶段3:掩模版到投影光学系统

投影光学系统(Projection Optics):
投影光学系统由多个反射镜组成,用于将掩模版上的图案缩小并精确投射到晶圆上。
主要反射镜包括:
缩小镜(Reduction Mirror):将图案缩小(通常缩小4倍)。
像差校正镜(Aberration Correction Mirror):校正光路中的像差。
反射次数:6-8次。
晶圆(Wafer):
光线最终投射到晶圆上,形成高分辨率的图案。
3. 总反射次数

光源到掩模版:1次(收集镜) + 4-6次(照明系统) = 5-7次。
掩模版到晶圆:6-8次(投影光学系统)。
总反射次数:13-14次。
4. 光路设计的关键技术

多层膜反射镜:
所有反射镜表面都涂有多层薄膜(通常是硅和钼的交替层),以高效反射13.5纳米的光。
单次反射效率约为70%,因此需要多次反射来补偿光能损失。
像差校正:
通过精确设计反射镜的曲率和位置,校正光路中的像差(如球差、彗差、散光等)。
热管理:
多次反射导致光能损失转化为热量,需要通过冷却系统防止反射镜热变形。
光源功率:
为了补偿光能损失,EUV光刻机需要极高功率的光源(通常为250瓦以上)。
5. 光路设计的挑战

反射镜制造精度:
反射镜的表面粗糙度必须控制在原子级别(约0.1纳米)。
反射镜的形状和曲率必须高度精确,通常使用离子束抛光等技术实现。
光路对准:
所有反射镜的位置和角度必须精确对准,以确保光线准确传递。
光能损失:
多次反射导致光能损失巨大,需要通过高功率光源和高效反射镜来补偿。
6. 总结

EUV光刻机的光路设计是其核心技术之一,通过13-14次反射将EUV光从光源传递到晶圆。这种设计虽然复杂且成本高昂,但它是实现先进制程芯片制造的关键技术。通过精确的光学设计和制造工艺,EUV光刻机能够在晶圆上实现纳米级精度的图案转移。

#25 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 22:56
verdelite
弃婴千枝 写了: 2025年 2月 8日 22:53 14次还是9次都不是关键,
说的是为什么要这么多次

核心问题是x射线只能掠射

嘿嘿、

耗子懂个鸡巴
这图看着不像是掠射?网上还有很多类似的图
图片
图片
图片

#26 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 22:57
hhcare
弃婴千枝 写了: 2025年 2月 8日 22:53 14次还是9次都不是关键,
说的是为什么要这么多次

核心问题是x射线只能掠射

嘿嘿、

耗子懂个鸡巴
我跟你说EUV八九十年代提出来的时候的确是四镜, 略入射。 这个我做过,
后来不是了。

略入射的X-ray 用来测coating我都做过。
你以为我换那么多老板干啥的?!

尼玛, 你的只是太陈旧了, 根本没有进过实验室, 更不要提现在的新技术了。
至于上次X光源电子打铜板等等, 我都是用过的。

弃婴你别丢人了好不好。 随便你看看EUV反射镜就知道不是掠入射了。

#27 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 22:57
OckhamT1
弃婴千枝 写了: 2025年 2月 8日 22:53 14次还是9次都不是关键,
说的是为什么要这么多次

核心问题是x射线只能掠射

嘿嘿、

耗子懂个鸡巴
你懂个叉叉!x射线入射角小到一定程度,只跟材料表面几纳米深度有作用,然后全部反射。入射角变大就有透射。

#28 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 22:58
hhcare
我从10um光一直做到X光,

全世界都没有几个可以这么吹牛逼的。 弃婴, 你还是投降吧。

#29 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 22:59
hhcare
OckhamT1 写了: 2025年 2月 8日 22:57 你懂个叉叉!x射线入射角小到一定程度,只跟材料表面几纳米深度有作用,然后全部反射。入射角变大就有透射。
low angle
high angle
反射测coating表面的variance。

#30 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 22:59
弃婴千枝
hhcare 写了: 2025年 2月 8日 22:57 我跟你说EUV八九十年代提出来的时候的确是四镜, 略入射。 这个我做过,
后来不是了。

略入射的X-ray 用来测coating我都做过。
你以为我换那么多老板干啥的?!

尼玛, 你的只是太陈旧了, 根本没有进过实验室, 更不要提现在的新技术了。
至于上次X光源电子打铜板等等, 我都是用过的。

弃婴你别丢人了好不好。 随便你看看EUV反射镜就知道不是掠入射了。
行了,人家问你为什么这么多镜,根本原因就是x射线只能掠射,所以反光镜的曲率都很小

#31 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 23:00
弃婴千枝
hhcare 写了: 2025年 2月 8日 22:58 我从10um光一直做到X光,

全世界都没有几个可以这么吹牛逼的。 弃婴, 你还是投降吧。
你就知道吹历史,原因是啥你屁都不懂

#32 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 23:01
hhcare
弃婴千枝 写了: 2025年 2月 8日 22:59 行了,人家问你为什么这么多镜,根本原因就是x射线只能掠射,所以反光镜的曲率都很小
因为这个图就是扯淡, 骗人的呗。。

#33 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 23:02
verdelite
hhcare 写了: 2025年 2月 8日 23:01 因为这个图就是扯淡, 骗人的呗。。
中国有一台EUV光刻机,这个骗不了人。

#34 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 23:02
redot
理论上,2-3次就可以,是光源和镜子不够好,过几年就会可以了

#35 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 23:03
hhcare
土鳖国用我早就早出来了。 活该做不出光刻机。

#36 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 23:03
hhcare
verdelite 写了: 2025年 2月 8日 23:02 中国有一台EUV光刻机,这个骗不了人。
中国可能得到了euv光刻机, 但是这个图, 14次反射都是骗人的。
耗子说话还是很有credit的。

#37 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 23:06
verdelite
hhcare 写了: 2025年 2月 8日 23:03 中国可能得到了euv光刻机, 但是这个图, 14次反射都是骗人的。
耗子说话还是很有credit的。
这张也骗人?我感觉不像。应该是照片上叠加了illustration.
图片

#38 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 23:07
hhcare
这么讲吧, 应该可以减少4次吧。 这张图。
用这张图, 土鳖就完蛋了, 还得多5-10年,
脑残

#39 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 23:09
verdelite
hhcare 写了: 2025年 2月 8日 23:07 这么讲吧, 应该可以减少4次吧。 这张图。
用这张图, 土鳖就完蛋了, 还得多5-10年,
脑残
这张日本的方案,容易点?
图片

#40 Re: EUV光刻机为什么要把光线反射十四次?

发表于 : 2025年 2月 8日 23:10
弃婴千枝
镜子都接近平面镜,曲率很小,

所以需要反射很多次才能得到所需的成像,这叫wolter telescope


url=https://postimages.org/]图片[/url]


verdelite 写了: 2025年 2月 8日 22:56 这图看着不像是掠射?网上还有很多类似的图
图片
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