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新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 09:41
gc01
上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!预计在年底向市场交付国产第一台28nm光刻机设备! ---- 套刻精度在1.9nm/1.7nm,估计是单机精度. ASML 1980I 单机套刻精度1.6nm, 跨机器精度2.5nm, 2
8月1日,据新华网援引《证券日报》消息称,上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!预计在年底向市场交付国产第一台28nm光刻机设备!

据悉,上海微电子在之前90nm的基础上,即将量产28nm immersion式光刻机,在2023年交付国产第一台SSA/800-10W光刻机设备。

immersion式光刻机就是浸没式光刻机,采用ArF光源,也就是193nm波长的光源,这是第四代光刻机,这也标志着中国和ASML在光刻机上仅有1代的差距,上海微电子凭借此项制程工艺也将会直接赶超日本佳能、尼康厂商,成为继荷兰ASML后,全球第二先进的光刻机厂商巨头。

据悉,上海微电子使用的是第四代光刻机技术,通过多重曝光可实现7nm 但是为了追求更高的图形密度和更小的工艺节点,在普通的涂胶-曝光-显影-刻蚀工艺的基础上开发了多重曝光技术,如LELE(litho-etch-litho-etch)、SADP(self aligned double patterning)。

LELE技术将给定的图案分为两个密度较小的部分,通过蚀刻硬掩模,将第一层图案转移到其下的硬掩模上,最终在衬底上得到两倍图案密度的图形;SADP技术通过沉积和刻蚀工艺在心轴(mandrel)侧壁上形成间隔物,经由额外的刻蚀步骤移除心轴,使用间隔物定义最终结构,使得特征密度增加了一倍。将SADP加倍可以得到四重图案化工艺(SAQP),使得193nm浸润式光刻可以实现~10nm的分辨率。

理论上是可以实现7nm节点工艺制程,但是会使得需要的光罩数量非常多,工艺复杂,量产难度大。应当指出,即使导入EUV,也并不是所有流程均由EUV承担,主要是应用在MOS器件关键层,其它对关键尺寸要求不高的步骤将仍由普通光刻机承担。

中国第四代浸没式光刻机有望交付 而此次上海微电子研发的SSA/800-10W光刻机设备正是属于第四代浸没式光刻机。

单次曝光就只可以直接生产28nm芯片,如果使用套刻精度在1.9nm左右的工作台,在多次曝光下能够实现11nm制程工艺的芯片生产。如果改用套刻精度更优的华卓精科工作台(1.7nm),在多重曝光下更是能够实现7nm制程工艺的芯片生产。

一旦可以制造7nm芯片,就可以解决半导体产业大部分的需求,因为芯片制造6大设备,扩散炉、刻蚀机,离子注入设备、薄膜生长设备、抛光机和清洗剂,中国目前都处在主流水平,其中刻蚀机更是达到了5nm,可以完成7nm芯片的制造需求。

而目前光刻机材料如电子特气、光刻胶等也在加速国产化,南大光电目前已经可以生产出7nm的光刻胶,当然,在EDA工具、IC设计上中国依然和国外有较大差距。

有数据显示,当前我国在清洗、热处理、去胶设备的国产化率分别达到34%、40%、90%,在涂胶显影、刻蚀、真空镀膜的国产化率达到10-30%,在原子层沉积、光刻、量测检测、离子注入的国产化率暂时低于5%。

值得一提的是,华为也在光刻机技术上积极投入,并取得了不俗成果,比如去年底就披露了名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”的专利,涉及到EUV光刻关键技术。

Re: 新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 09:44
hhcare
我不信国内这个机子能量产

Re: 新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 09:44
gc01
完了,可以生产7nm

如果改用套刻精度更优的华卓精科工作台(1.7nm),在多重曝光下更是能够实现7nm制程工艺的芯片生产。

一旦可以制造7nm芯片,就可以解决半导体产业大部分的需求,因为芯片制造6大设备,扩散炉、刻蚀机,离子注入设备、薄膜生长设备、抛光机和清洗剂,中国目前都处在主流水平,其中刻蚀机更是达到了5nm,可以完成7nm芯片的制造需求。

Re: 新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 09:45
Larry Zhang
吹牛逼打个草稿好吧?
耗子还没回国,
怎么可能有突破?
突破五毛它妹28nm的处女膜!

Re: 新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 09:47
_notalandlord
完了

Re: 新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 09:54
Knifer
美国会制裁所有中国学生吧,不准学英语

Re: 新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 10:15
fanqie
ArF ,高精度双工作台早几年就攻克了。这个光刻机也就是水到渠成的事情。2025年再迭代一次,就能到14nm.

现在看EUV的光源问题了,这种别人已经踩出路的东西,要想卡住还是很困难的。

1nm之下的量产制造方法大家现在都没有。光源上,中国是已经有了。但是没法用来量产芯片。

Re: 新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 10:36
scolari
fanqie 写了: 2023年 8月 2日 10:15 ArF ,高精度双工作台早几年就攻克了。这个光刻机也就是水到渠成的事情。2025年再迭代一次,就能到14nm.

现在看EUV的光源问题了,这种别人已经踩出路的东西,要想卡住还是很困难的。

1nm之下的量产制造方法大家现在都没有。光源上,中国是已经有了。但是没法用来量产芯片。
吹吧,反正2025很快就到了

Re: 新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 10:43
hurricane1
新华社和彭博引的都是证券日报,证券日报的原文好像已经删了

Re: 新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 10:58
UnixLinux

Re: 新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 11:03
irisyuan
“通过多重曝光可实现7nm 但是为了追求更高的图形密度和更小的工艺节点,在普通的涂胶-曝光-显影-刻蚀工艺的基础上开发了多重曝光技术”

这是人话吗?

Re: 新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 11:05
wanmeishijie
hhcare 写了: 2023年 8月 2日 09:44 我不信国内这个机子能量产
你就是崇美!跪美!惧美!满脑子的失败主义情绪!丧失了斗争精神!这样下去怎么造的出光刻机呢?
南蛮子花了5年终于造了个DUV,你是我们北方人的优秀代表,应该直接造EUV!

Re: 新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 11:06
UnixLinux
Knifer 写了: 2023年 8月 2日 09:54 美国会制裁所有中国学生吧,不准学英语



很定会的





Re: 新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 11:06
wanmeishijie
irisyuan 写了: 2023年 8月 2日 11:03 “通过多重曝光可实现7nm 但是为了追求更高的图形密度和更小的工艺节点,在普通的涂胶-曝光-显影-刻蚀工艺的基础上开发了多重曝光技术”

这是人话吗?
这是193nm浸润式DUV,当然可以这么搞。

Re: 新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 11:08
damagu3
磨皮货,最近买了很多asml,拆了套的义乌产的壳子

Re: 新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 11:22
UnixLinux
wanmeishijie 写了: 2023年 8月 2日 11:05 你就是崇美!跪美!惧美!满脑子的失败主义情绪!丧失了斗争精神!这样下去怎么造的出光刻机呢?
南蛮子花了5年终于造了个DUV,你是我们北方人的优秀代表,应该直接造EUV!





Re: 新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 11:24
krzkrz
hhcare 写了: 2023年 8月 2日 09:44 我不信国内这个机子能量产
耗子哥是不是慌了

Re: 新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 11:29
Larry Zhang
hurricane1 写了: 2023年 8月 2日 10:43 新华社和彭博引的都是证券日报,证券日报的原文好像已经删了
证券日报?就是故意放假消息操控股价的
LOL

Re: 新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 11:30
NoDinner
完了,堡叔白怂了

Re: 新华社: 上海微电子在28nm浸没式光刻机研发上取得重大突破!

发表于 : 2023年 8月 2日 11:41
fanqie
FunnyJoe 写了: 2023年 8月 2日 10:32 其实到了七纳米, 再 缩小 没有太大意的。。。
这好比办公室软件。。。 你用10年前的版本 做事情根本没有什么 效率 上的差别。。

手机 和电脑 等等。。。 性能上早就饱和了
主要是台湾这种地方发展EUV本来就是竭泽而渔。台湾30%的电力供应台积电。