华为2026三纳米？

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不太靠谱

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不太靠谱

这人美国智库

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起码得2027年之后了

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起码得2027年之后了

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https://api3.cls.cn/share/article/2044124?sv=859&os=web

工艺精度上，中微公司ICP刻蚀机Twin-star两台的加工精度已经进入皮米数量级，达到100皮米以下水平；双台刻蚀机实现原子、亚原子水平刻蚀控制，达到全球先进水平。目前业内量产所用刻蚀机的深宽比在60:1，中微公司正在突破90到100:1的深孔刻蚀。

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4.如果没有EUV，用DUV光刻机做到5nm没有问题，只是需要更多刻蚀薄膜的双重、多重曝光工艺环节，但到3nm能不能做还是个问号，对此我相信中国人的能力和志气。